PHIN LỌC UNIX 213 P3RD- Sử dụng với mặt nạ toàn cảnh UNIX 6100, UNIX 5000 và UNIX 5100 hoặc mặt nạ nửa mặt UNIX 1000 và UNIX 1100 để bảo vệ các cơ quan hô hấp khỏi sol khí (hơn 200 mg / m3) và khí và hơi hữu cơ có hại hiện diện trong không khí của khu vực làm việc- Tấm lọc được gắn vào mặt kính bằng kết nối lưỡi lê. Tấm lọc RD của UNIX 213 P3 RD có hiệu suất cao, có thể tái sử dụng và chống bụi.- Nhiệt độ môi trường từ -40 đến + 40 ° С. - Tiêu chuẩn: EN 143:2000 + A1: 2006